-
Waferi prekriveni aluminijem:
Ovi laboratorijski wafers imaju aluminijski premaz nanesen PVD-om na Al–Si podlogama, što osigurava pouzdane električne performanse i kvalitetu površine.
-
Opcije debljine aluminijskog sloja:
Debljina aluminijskog sloja može se prilagoditi od 50 nm do 1000 nm, omogućavajući precizno podešavanje električnih i optičkih svojstava.
-
Prilagodljivi podlozi:
Rešetke podloge i vrste filma mogu se prilagoditi zahtjevima eksperimenta.
-
Opcionalni Cr/Ti adhezijski slojevi:
Cr/Ti adhezijski slojevi poboljšavaju adheziju i trajnost filma na izazovnim površinama.
-
Laboratorijska kvaliteta:
Proizvedeno prema laboratorijskim standardima, uz dosljednu kontrolu debljine i čistu završnu obradu površine.
-
PVD premaz aluminijem:
PVD-aluminijski premaz na Al–Si podlogama osigurava ujednačenu pokrivenost za širok spektar postupaka depozicije i prototipiranja.




